MASKING ABILITY OF VARIOUS COMPLEXING AGENTS FOR ALUMINUM IN FLUORINE DETERMINATION WITH A FLUORIDE ION-SELECTIVE ELECTRODE

被引：26

作者：

TANIKAWA, S

KIRIHARA, H

SHIRAISHI, N

NAKAGAWA, G

KODAMA, K

机构：

[1] NAGOYA INST TECHNOL,NAGOYA,JAPAN

[2] CENT GLASS CO LTD,TAKI,MIE,JAPAN

来源：

ANALYTICAL LETTERS | 1975年 / 8卷 / 12期

关键词：

D O I：

10.1080/00032717508059064

中图分类号：

O65 [分析化学];

学科分类号：

070302 ; 081704 ;

摘要：

引用

收藏

页码：879 / 883

页数：5

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共 12 条

[11]

SHIRAISHI N, 1973, ANAL LETT, V10, P895

[12]

1963, STABILITY CONSTAN S1