VARIABLE PROFILE CONTACT ETCHING USING BILAYER PLANARIZED PHOTORESIST

被引：2

作者：

JILLIE, D

FREIBERGER, P

BLAISDELL, T

MULTANI, J

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2100804

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1988 / 1993

页数：6

共 11 条

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