CONTACT RESISTANCE OF LPCVD-W/AL AND PTSI/W/AL METALLIZATION

被引：39

作者：

SWIRHUN, S

SARASWAT, KC

SWANSON, RM

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/EDL.1984.25890

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：209 / 211

页数：3

共 6 条

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