STUDIES OF PLASMA-ETCHING OF III-V COMPOUNDS - THE EFFECTS OF TEMPERATURE AND DISCHARGE FREQUENCY

被引：2

作者：

IBBOTSON, DE

FLAMM, DL

DONNELLY, VM

DUNCAN, BS

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1982年 / 20卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.571343

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：489 / 490

页数：2

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共 3 条

[1]

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