CONFINED OXYGEN GLOW-DISCHARGE CLEANING OF SILICON

被引：4

作者：

HOFFMAN, DM

THOMAS, JH

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1986年 / 4卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.573879

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：536 / 538

页数：3

共 5 条

HOFMANN, S ;

THOMAS, JH .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1983, 1 (01) :43-47

[2]

Holland L., 1964, PROPERTIES GLASS SUR

[3]

POLEY N, 1974, J VAC SCI TECHNOL, V11, P474

[4] UV OZONE CLEANING OF SURFACES [J].

VIG, JR .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS, 1985, 3 (03) :1027-1034

VOSSEN, JL ;

THOMAS, JH ;

MAA, JS ;

MESKER, OR ;

FOWLER, GO .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS, 1983, 1 (03) :1452-1455