ALUMINUM-ALLOY ULTRAHIGH-VACUUM SYSTEM FOR MOLECULAR-BEAM EPITAXY

被引：15

作者：

MIYAMOTO, M ^{[1
]}

SUMI, Y ^{[1
]}

KOMAKI, S ^{[1
]}

机构：

[1] NATL LAB HIGH ENERGY PHYS,TSUKUBA,IBARAKI 305,JAPAN

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1986年 / 4卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.573720

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：2515 / 2519

页数：5