PHOTOINDUCED DIFFUSION OF AG IN GEXSE1-X GLASS

被引：16

作者：

LEUNG, W ^{[1
]}

CHEUNG, N ^{[1
]}

NEUREUTHER, AR ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV CALIF BERKELEY,ELECTR RES LAB,BERKELEY,CA 94720

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.95586

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：543 / 545

页数：3

共 6 条

[1]

LEUNG W, 1985, APPL PHYS LETT, V46, P1

[2]

Stark J.P., 1976, SOLID STATE DIFFUSIO

TAI, KL ;

VADIMSKY, RG ;

KEMMERER, CT ;

WAGNER, JS ;

LAMBERTI, VE ;

TIMKO, AG .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1980, 17 (05) :1169-1176

TAI, KL ;

SINCLAIR, WR ;

VADIMSKY, RG ;

MORAN, JM ;

RAND, MJ .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1979, 16 (06) :1977-1979

[5]

TAI KL, 1982, P SOC PHOTO-OPT INST, V333, P32, DOI 10.1117/12.933409

[6]

WAGNER A, 1982, P ELECTROCHEM SOC B, V2, P281