REPAIR OF OPAQUE DEFECTS IN PHOTOMASKS USING FOCUSED ION-BEAMS

被引：20

作者：

PREWETT, PD ^{[1
]}

HEARD, PJ ^{[1
]}

机构：

[1] ION BEAM SYST LTD,ABINGDON,OXON,ENGLAND

来源：

关键词：

D O I：

10.1088/0022-3727/20/9/021

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1207 / 1209

页数：3

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共 5 条

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