PLASMA ETCHING IN INTEGRATED-CIRCUIT MANUFACTURE - REVIEW

被引：140

作者：

POULSEN, RG ^{[1
]}

机构：

[1] BELL NO RES,OTTAWA K1Y 4H7,ONTARIO,CANADA

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1977年 / 14卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.569137

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：266 / 274

页数：9

共 54 条

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