CRYSTALLOGRAPHIC CHARACTER OF ZNO THIN-FILM FORMED AT LOW SPUTTERING GAS-PRESSURE

被引：27

作者：

MIURA, M

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS | 1982年 / 21卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.21.264

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：264 / 271

页数：8

共 8 条

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