DIELECTRIC INSTABILITY AND BREAKDOWN IN SIO2 THIN-FILMS

被引:67
作者
DISTEFANO, TH
SHATZKES, M
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
[2] IBM CORP,SYST PROD DIV,HOPEWELL JUNCTION,NY 12533
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1976年 / 13卷 / 01期
关键词
D O I
10.1116/1.568911
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页数:5
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