PREPARATION OF TUNGSTEN CARBIDE AND TUNGSTEN NITRIDE BY CVD METHOD USING FLUORIDE

被引：2

作者：

WATANABE, N

TERADA, T

CHONG, YB

NAKAJIMA, T

机构：

来源：

NIPPON KAGAKU KAISHI | 1985年 / 10期

关键词：

D O I：

10.1246/nikkashi.1985.1812

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

引用

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页码：1812 / 1820

页数：9

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[1] CHEMICAL VAPOR-DEPOSITED TUNGSTEN CARBIDE WEAR-RESISTANT COATINGS FORMED AT LOW-TEMPERATURES [J].

ARCHER, NJ ;

YEE, KK .

WEAR, 1978, 48 (02) :237-250

[2] THE PREPARATION AND CHARACTERIZATION OF TRANSITION-METAL NITRIDE FILMS [J].

DAWSON, PT ;

STAZYK, SAJ .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1982, 20 (04) :966-967

[3]

MANTLE H, 1975, 5TH INT C CVD BUCK, P540

[4] CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF TUNGSTEN CARBIDE DENDRITES [J].

TAKAHASHI, T ;

ITOH, H .

JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 1972, 12 (04) :265-+