PREFERENTIAL ETCHING OF INP FOR SUB-MICRON FABRICATION WITH HCL/H3PO4 SOLUTION

被引：9

作者：

UEKUSA, S ^{[1
]}

OIGAWA, K ^{[1
]}

TACANO, M ^{[1
]}

机构：

[1] ELECTROTECH LAB,SAKURA,IBARAKI 305,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2113927

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：671 / 673

页数：3

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