POLY(4-CHLOROSTYRENE), A NEW HIGH CONTRAST NEGATIVE E-BEAM RESIST

被引：9

作者：

LIUTKUS, J

HATZAKIS, M

SHAW, J

PARASZCZAK, J

机构：

来源：

POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE | 1983年 / 23卷 / 18期

关键词：

D O I：

10.1002/pen.760231814

中图分类号：

TQ [化学工业];

学科分类号：

0817 ;

摘要：

引用

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页码：1047 / 1049

页数：3

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