DESIGN CONCEPT FOR A HIGH-PERFORMANCE POSITIVE PHOTORESIST

被引：36

作者：

HANABATA, M

UETANI, Y

FURUTA, A

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1989年 / 7卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.584621

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：640 / 650

页数：11

共 7 条

[1]

ARCUS RA, 1986, SPIE P, V631, P124

[2] PURIFIED CHEMICALS AND RESINS FROM PHENOL AND FORMALDEHYDE [J].

BENDER, HL ;

FARNHAM, AG ;

GUYER, JW ;

APEL, FN ;

GIBB, TB .

INDUSTRIAL AND ENGINEERING CHEMISTRY, 1952, 44 (07) :1619-1623

[3] HIGH-PERFORMANCE POSITIVE PHOTORESISTS [J].

FURUTA, A ;

HANABATA, M ;

UEMURA, Y .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1986, 4 (01) :430-436

[4]

KNOP A, 1985, PHENOLIC RESINS, P49

[5]

KNOP A, 1979, CHEM APPLICATION PHE

MORRIS, GA ;

FREEMAN, R .

[7]

1982, KIRKOTHMER ENCY CHEM, V17, P384