MICROWAVE PLASMA - ITS CHARACTERISTICS AND APPLICATIONS IN THIN-FILM TECHNOLOGY

被引：50

作者：

MUSIL, J

机构：

[1] Czechoslovak Acad of Sciences, Prague, Czech, Czechoslovak Acad of Sciences, Prague, Czech

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0042-207X(86)90292-7

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：161 / 169

页数：9