RECENT DEVELOPMENTS IN ELECTRON-RESIST EVALUATION TECHNIQUES

被引：32

作者：

HATZAKIS, M ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1975年 / 12卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.568516

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1276 / 1279

页数：4