REALIZATION OF N-CHANNEL AND P-CHANNEL HIGH-MOBILITY (AL,GA)AS/GAAS HETEROSTRUCTURE INSULATING GATE FETS ON A PLANAR WAFER SURFACE

被引:41
作者
CIRILLO, NC [1 ]
SHUR, MS [1 ]
VOLD, PJ [1 ]
ABROKWAH, JK [1 ]
TUFTE, ON [1 ]
机构
[1] UNIV MINNESOTA,DEPT ELECT ENGN,MINNEAPOLIS,MN 55455
关键词
D O I
10.1109/EDL.1985.26261
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页码:645 / 647
页数:3
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