INTRINSIC RESPUTTERING DURING SPUTTER DEPOSITION

被引：7

作者：

HOFFMAN, DW

BADGLEY, JS

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1988年 / 6卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.575310

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：1691 / 1692

页数：2

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共 3 条

[1] RESPUTTERING DURING ION-BEAM SPUTTER DEPOSITION [J].

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