FOCUSED GA+ BEAM DIRECT IMPLANTATION FOR SI DEVICE FABRICATION

被引：12

作者：

HAMADEH, H ^{[1
]}

CORELLI, JC ^{[1
]}

STECKL, AJ ^{[1
]}

BERRY, IL ^{[1
]}

机构：

[1] DEPT DEF,FT GEORGE G MEADE,MD 20755

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1985年 / 3卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.583298

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：91 / 93

页数：3

共 4 条

BERRY, IL .

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