SOLUTE EFFECTS ON ELECTROMIGRATION

被引:23
作者
HO, PS [1 ]
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
来源
PHYSICAL REVIEW B | 1973年 / 8卷 / 10期
关键词
D O I
10.1103/PhysRevB.8.4534
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:4534 / 4539
页数:6
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