EVIDENCE FOR METASTABLE DEFECTS IN AMORPHOUS-SILICON THIN-FILM TRANSISTORS

被引：7

作者：

HEPBURN, AR ^{[1
]}

MARSHALL, JM ^{[1
]}

MAIN, C ^{[1
]}

POWELL, MJ ^{[1
]}

VANBERKEL, C ^{[1
]}

机构：

[1] PHILIPS RES LABS,REDHILL RH1 5HA,SURREY,ENGLAND

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0022-3093(85)90919-6

中图分类号：

TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：1409 / 1412

页数：4

共 8 条

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