ANOMALOUS DEFECT PROCESSES IN SILICON-IMPLANTED SIO2

被引:10
作者
FUJITA, T [1 ]
FUKUI, M [1 ]
OKADA, S [1 ]
SHIMIZU, T [1 ]
ITOH, N [1 ]
机构
[1] NAKANIHON AUTOMOT COLL, SAKAHOGI, GIFU 505, JAPAN
来源
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS | 1989年 / 28卷 / 07期
关键词
D O I
10.1143/JJAP.28.L1254
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:L1254 / L1257
页数:4
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