REACTIVE ION ETCHING OF TRANSPARENT CONDUCTING TIN OXIDE-FILMS USING ELECTRON-CYCLOTRON RESONANCE HYDROGEN PLASMA

被引：20

作者：

MINAMI, T

MIYATA, T

IWAMOTO, A

TAKATA, S

NANTO, H

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS | 1988年 / 27卷 / 09期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.27.L1753

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L1753 / L1756

页数：4

共 4 条

[1]

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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS, 1988, 27 (03) :L287-L289