CONDUCTION PROCESS IN PYROLYTICALLY DEPOSITED SIO2-FILMS

被引:6
作者
POPOVA, LI [1 ]
ANTOV, BZ [1 ]
VITANOV, PK [1 ]
机构
[1] INST MICROELECTR,SOFIA 1113,BULGARIA
关键词
D O I
10.1016/0040-6090(76)90003-1
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
收藏
页码:247 / 253
页数:7
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共 11 条
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JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1968, 39 (12) :5600-&