A DRY ETCHING TECHNIQUE USING ELECTRON-BEAM RESIST-PBS

被引：9

作者：

YAMAZAKI, T

WATAKABE, Y

SUZUKI, Y

NAKATA, H

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2130018

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1859 / 1861

页数：3

相关论文

共 2 条

[1] POLY(BUTENE-1 SULFONE) - HIGHLY SENSITIVE POSITIVE RESIST [J].

BOWDEN, MJ ;

THOMPSON, LF ;

BALLANTYNE, JP .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1975, 12 (06) :1294-1296

[2] REVERSAL ETCHING OF CHROMIUM FILM IN GAS PLASMA [J].

YAMAZAKI, T ;

SUZUKI, Y ;

UNO, J ;

NAKATA, H .