FLOAT-ZONED SILICON WITH HOMOGENEOUS DOPANT DISTRIBUTION

被引：6

作者：

KELLER, W ^{[1
]}

MUHLBAUER, A ^{[1
]}

机构：

[1] SIEMENS AG, WERK HALBLEITER, MUNICH, WEST GERMANY

来源：

PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE | 1974年 / 25卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1002/pssa.2210250112

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：149 / 152

页数：4

共 4 条

[1]

Barthel J., 1973, Kristall und Technik, V8, P199, DOI 10.1002/crat.19730080120

[2]

KELLER W, 1973, FEINWERKTECHNIK, V77, P107

MUHLBAUER, A ;

SIRTL, E .

PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE, 1974, 23 (02) :555-565

SCHNOLLER, M .