TRANSMISSION ELECTRON-MICROSCOPE OBSERVATIONS OF EXTENDED AND UNEXTENDED DISLOCATION NODES IN SI AND GE/SI LAYERS USING WEAK-BEAM TECHNIQUE

被引:19
作者
CULLIS, AG [1 ]
机构
[1] UNIV OXFORD,DEPT MET,OXFORD,ENGLAND
来源
JOURNAL OF MICROSCOPY-OXFORD | 1973年 / 98卷 / JUL期
关键词
D O I
10.1111/j.1365-2818.1973.tb03822.x
中图分类号
TH742 [显微镜];
学科分类号
摘要
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页码:191 / 195
页数:5
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