学术探索
学术期刊
新闻热点
数据分析
智能评审
立即登录
INTERACTIONS OF CO THIN-FILMS WITH SI SUBSTRATES
被引:3
作者
:
COULMAN, B
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
COULMAN, B
BROADBENT, EK
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
BROADBENT, EK
机构
:
来源
:
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS
|
1987年
/ 5卷
/ 04期
关键词
:
D O I
:
10.1116/1.574611
中图分类号
:
TB3 [工程材料学];
学科分类号
:
0805 ;
080502 ;
摘要
:
引用
收藏
页码:1419 / 1420
页数:2
相关论文
共 2 条
[1]
LIEN CD, 1984, MATER RES SOC S P, V25, P131
[2]
COBALT SILICIDE LAYERS ON SI .1. STRUCTURE AND GROWTH
VANGURP, GJ
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
PHILIPS RES LABS,EINDHOVEN,NETHERLANDS
PHILIPS RES LABS,EINDHOVEN,NETHERLANDS
VANGURP, GJ
LANGEREIS, C
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
PHILIPS RES LABS,EINDHOVEN,NETHERLANDS
PHILIPS RES LABS,EINDHOVEN,NETHERLANDS
LANGEREIS, C
[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1975,
46
(10)
: 4301
-
4307
←
1
→
共 2 条
[1]
LIEN CD, 1984, MATER RES SOC S P, V25, P131
[2]
COBALT SILICIDE LAYERS ON SI .1. STRUCTURE AND GROWTH
VANGURP, GJ
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
PHILIPS RES LABS,EINDHOVEN,NETHERLANDS
PHILIPS RES LABS,EINDHOVEN,NETHERLANDS
VANGURP, GJ
LANGEREIS, C
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
PHILIPS RES LABS,EINDHOVEN,NETHERLANDS
PHILIPS RES LABS,EINDHOVEN,NETHERLANDS
LANGEREIS, C
[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1975,
46
(10)
: 4301
-
4307
←
1
→