A NEW TECHNIQUE FOR GETTERING OXYGEN AND MOISTURE FROM GASES USED IN SEMICONDUCTOR PROCESSING

被引：53

作者：

SHEALY, JR ^{[1
]}

WOODALL, JM ^{[1
]}

机构：

[1] CORNELL UNIV,SCH ELECT ENGN,ITHACA,NY 14853

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.93299

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：88 / 90

页数：3

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共 5 条

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