INSITU OBSERVATION OF PLASMAS FOR DRY ETCHING BY IR SPECTROSCOPY AND PROBE METHODS

被引：19

作者：

NISHIZAWA, J

HAYASAKA, N

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(82)90201-2

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：189 / 198

页数：10

共 15 条

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