X-RAY STUDY OF CVD ALUMINUM THIN-FILMS DEPOSITED ON SILICON AND QUARTZ SUBSTRATES

被引：6

作者：

FATU, D ^{[1
]}

MUSCALU, M ^{[1
]}

MOROSANU, CE ^{[1
]}

机构：

[1] CCSITS,SEMICOND RES CTR,R-72996 BUCHAREST 30,ROMANIA

来源：

MATERIALS CHEMISTRY | 1980年 / 5卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1016/0390-6035(80)90032-2

中图分类号：

O69 [应用化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：19 / 28

页数：10

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共 5 条

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