ADVANCED PATTERN DATA-PROCESSING TECHNIQUE FOR A RASTER SCAN ELECTRON-BEAM EXPOSURE SYSTEM

被引：1

作者：

KOYAMA, K ^{[1
]}

SASAKI, S ^{[1
]}

TOKITA, M ^{[1
]}

机构：

[1] TOSHIBA MACHINE CO LTD,NUMAZU CITY,SHIZUOKA 410,JAPAN

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 19卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.571206

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：988 / 992

页数：5