DEFECT CENTERS IN OXYGEN-DEFICIENT RF-SPUTTERED SIO2-FILMS .2. THERMOLUMINESCENCE

被引:10
作者
HICKMOTT, TW [1 ]
机构
[1] IBM CORP, THOMAS J WATSON RES CTR, YORKTOWN HTS, NY 10598 USA
关键词
D O I
10.1063/1.1663368
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:1060 / 1070
页数:11
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