MODELING OF CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION .1. GENERAL-CONSIDERATIONS

被引:31
作者
KOREC, J
HEYEN, M
机构
关键词
D O I
10.1016/0022-0248(82)90101-4
中图分类号
O7 [晶体学];
学科分类号
0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;
摘要
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页码:286 / 296
页数:11
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