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PHOTOINDUCED TRANSFORMATION OF POLYSILOXANE LAYERS TO SIO2
被引:17
作者
:
KLUMPP, A
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KLUMPP, A
SIGMUND, H
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SIGMUND, H
机构
:
来源
:
APPLIED SURFACE SCIENCE
|
1989年
/ 43卷
关键词
:
D O I
:
10.1016/0169-4332(89)90229-8
中图分类号
:
O64 [物理化学(理论化学)、化学物理学];
学科分类号
:
070304 ;
081704 ;
摘要
:
引用
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页码:301 / 303
页数:3
相关论文
共 3 条
[1]
DEPOSITION OF HIGH-QUALITY SIO2 LAYERS FROM TEOS BY EXCIMER LASER
KLUMPP, A
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KLUMPP, A
SIGMUND, H
论文数:
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0
SIGMUND, H
[J].
APPLIED SURFACE SCIENCE,
1989,
36
(1-4)
: 141
-
149
[2]
Rochow E. G., 1951, INTRO CHEM SILICONES
[3]
ROCHOW EG, 1958, GMELIN SILICIUM C, P328
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共 3 条
[1]
DEPOSITION OF HIGH-QUALITY SIO2 LAYERS FROM TEOS BY EXCIMER LASER
KLUMPP, A
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KLUMPP, A
SIGMUND, H
论文数:
0
引用数:
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0
SIGMUND, H
[J].
APPLIED SURFACE SCIENCE,
1989,
36
(1-4)
: 141
-
149
[2]
Rochow E. G., 1951, INTRO CHEM SILICONES
[3]
ROCHOW EG, 1958, GMELIN SILICIUM C, P328
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