EXCITATION MECHANISM OF FAR-INFRARED SULFUR-DIOXIDE MOLECULAR LASER

被引：5

作者：

HASSLER, JC ^{[1
]}

HUBNER, G ^{[1
]}

COLEMAN, PD ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV ILLINOIS,DEPT ELECT ENGN,ELECTROPHYS LAB,URBANA,IL 61801

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1973年 / 44卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1063/1.1662262

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：795 / 801

页数：7

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共 34 条

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[No title captured]

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