CHEMICAL EFFECTS IN QUANTITATIVE AUGER ANALYSIS OF PHOSPHORUS IN SILICON AND SILICON DIOXIDE

被引：7

作者：

OGATA, H

KANAYAMA, K

FUJIWARA, K

机构：

来源：

APPLIED SURFACE SCIENCE | 1980年 / 6卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1016/0378-5963(80)90055-0

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

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页码：55 / 61

页数：7

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