SPUTTER ETCHING OF SNO2 FILM

被引：5

作者：

HAYASHI, T ^{[1
]}

TSUKAMOTO, H ^{[1
]}

机构：

[1] MATSUSHITA RES INST TOKYO INC, IKUTA, KAWASAKI, JAPAN

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1973年 / 12卷 / 09期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.12.1457

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：1457 / 1457

页数：1

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共 2 条

[1] RF SPUTTER ETCHING - A UNIVERSAL ETCH [J].

DAVIDSE, PD .

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1969, 116 (01) :100-&

[2]

HEIL R, 1968, SOLID STATE TECHNOL, V11, P42