EFFECT OF H-2 ON AN ARGON DISCHARGE FOR PLANAR MAGNETRON SPUTTERING

被引:7
作者
MANIV, S [1 ]
WESTWOOD, WD [1 ]
机构
[1] BELL NO RES,BOX 2511,STN C,OTTAWA K1Y 4H7,ONTARIO,CANADA
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1980年 / 17卷 / 01期
关键词
D O I
10.1116/1.570466
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:403 / 406
页数:4
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