COMPUTER-CONTROLLED SCANNING ELECTRON-MICROSCOPE SYSTEM FOR HIGH-RESOLUTION MICROELECTRONIC PATTERN FABRICATION

被引：14

作者：

OZDEMIR, FS

BUCKEY, CR

WOLF, ED

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/T-ED.1972.17463

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：624 / +

页数：1

共 14 条

[1] AMBOSS K, 1971, 11 S EL ION LAS BEAM
[2] ANGELLO SJ, 1969, AFALTR69204 WRIGHT P
[3] BEASLEY JP, 1970, 4 INT C EL ION BEAM, P515
[4] BREWER GR, 1971, IEEE SPECTRUM, V8, P23, DOI 10.1109/MSPEC.1971.5217844
[5] BROERS AN, 1970, IND RES, V12, P56
[6] BROERS AN, 1971, PROGRAM TOPICAL M US, P1
[7] BROERS AN, 1970, 7 P INT EL MICR C GR, V1, P249
[8] CHANG THP, 1971, 4 P ANN SCANN EL MIC, P417
[9] CHANG THP, 1969, 10TH P S EL ION LAS, P97
[10] ELECTRON RESISTS FOR MICROCIRCUIT AND MASK PRODUCTION
HATZAKIS, M
[J]. JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1969, 116 (07) : 1033 - &