BORON ATOM DISTRIBUTIONS IN IONS-IMPLANTED SILICON BY (N,HE-4) NUCLEAR-REACTION

被引：27

作者：

ZIEGLER, JF

BAGLIN, JEE

MASTERS, BJ

CROWDER, BL

COLE, GW

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.1654197

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：16 / &

共 13 条

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