INFLUENCE OF ION-BOMBARDMENT ON MICROSTRUCTURE OF THICK DEPOSITS PRODUCED BY HIGH RATE PHYSICAL VAPOR-DEPOSITION PROCESSES

被引：46

作者：

BUNSHAH, RF

JUNTZ, RS

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1972年 / 9卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.1317049

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1404 / &

共 8 条

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