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1-4 DEMAGNIFYING ELECTRON PROJECTION SYSTEM
被引:18
作者
:
ASAI, T
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ASAI, T
ITO, S
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ITO, S
ETO, T
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ETO, T
MIGITAKA, M
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MIGITAKA, M
机构
:
来源
:
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
|
1980年
/ 19卷
关键词
:
D O I
:
10.7567/JJAPS.19S1.47
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
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页码:47 / 50
页数:4
相关论文
共 4 条
[1]
FROSIEN J, 1978 P C MICR ENG CA
[2]
ELECTRON-PROJECTION MICROFABRICATION SYSTEM
HERITAGE, MB
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
HERITAGE, MB
[J].
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY,
1975,
12
(06):
: 1135
-
1145
[3]
HERITAGE MB, 1976 P S EL ION BEAM, P348
[4]
MEYER A, 1976 P S EL ION BEAM, P332
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共 4 条
[1]
FROSIEN J, 1978 P C MICR ENG CA
[2]
ELECTRON-PROJECTION MICROFABRICATION SYSTEM
HERITAGE, MB
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
HERITAGE, MB
[J].
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY,
1975,
12
(06):
: 1135
-
1145
[3]
HERITAGE MB, 1976 P S EL ION BEAM, P348
[4]
MEYER A, 1976 P S EL ION BEAM, P332
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