THERMAL-ANALYSIS OF POSITIVE PHOTORESIST FILMS BY MASS-SPECTROMETRY

被引:27
作者
SHAW, JM [1 ]
FRISCH, MA [1 ]
DILL, FH [1 ]
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
关键词
D O I
10.1147/rd.213.0219
中图分类号
TP3 [计算技术、计算机技术];
学科分类号
0812 ;
摘要
引用
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页数:8
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