CHARACTERIZATION OF RF-SPUTTER-DEPOSITED CHROMIUM-OXIDE FILMS

被引：12

作者：

BHUSHAN, B ^{[1
]}

机构：

[1] MECH TECHNOL INC,LATHAM,NY 12110

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(80)90488-5

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：255 / 265

页数：11

共 4 条

BHUSHAN, B .

BHUSHAN, B ;

GRAY, S .

BRAINARD, WA ;

WHEELER, DR .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1978, 15 (06) :1800-1805

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MAISSEL LI, 1970, HDB THIN FILM TECHNO, pCH4