EFFECT OF ION-BOMBARDMENT DURING DEPOSITION ON MAGNETIC-FILM PROPERTIES

被引：14

作者：

HERTE, LF

LANG, A

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 18卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.570713

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：153 / 155

页数：3

共 7 条

CHEN, T ;

CHARLAN, GB .

FISHER, RD ;

CHILTON, WH .

[3] EFFECTS OF OXYGEN ON PROPERTIES OF RF SPUTTERED NIFE FILMS [J].

HAMMER, WN ;

AHN, KY .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1980, 17 (04) :804-807

[4] SPUTTERED MULTILAYER FILMS FOR DIGITAL MAGNETIC RECORDING [J].

MALONEY, WT .

[5] 787 BPM-40 TPM FEASIBILITY OF A PLATED DISK [J].

NAGAO, M ;

SUGANUMA, Y ;

TANAKA, H ;

YANAGISAWA, M ;

GOTO, F .

[6]

THORNTON JA, 1978, THIN FILM PROCESSES, P105

[7]

WILLIAM ML, 1971, MAGNETISM MAGNETIC M, P738