PLASMA PRETREATMENT TO IMPROVE RESIST PROPERTIES BY REDUCTION OF RESIST FLOW DURING POSTBAKE

被引：20

作者：

MORAN, JM

TAYLOR, GN

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 19卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.571182

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1127 / 1131

页数：5

共 16 条

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