共 31 条
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ZELLAMA K, UNPUBLISHED
EFFECTS OF RF-POWER AND REACTANT GAS-PRESSURE ON PLASMA DEPOSITED AMORPHOUS HYDROGENATED SILICON
被引：27
作者：
POTTS, JE
[1
]
PETERSON, EM
[1
]
MCMILLAN, JA
[1
]
机构：
[1] ARGONNE NATL LAB,DIV SOLID STATE SCI,ARGONNE,IL 60439
关键词：
D O I：
10.1063/1.328616
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
引用
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页码：6665 / 6672
页数：8
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