Mass Spectrometric Detection of Intermediates in Chemical Vapor Deposition of Si(3)N(4)

被引:18
作者
Lin, Sin-Shong [1 ]
机构
[1] USA, Mat & Mech Res Ctr, Watertown, MA 02172 USA
关键词
D O I
10.1149/1.2133202
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
引用
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页码:1945 / 1947
页数:4
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